低溫多晶矽製程是利用準分子雷射作為熱源，雷射光經過投射系統後，會產生能量均勻分布的雷射光束，投射於非晶矽結構的玻璃基板上，當非晶矽結構玻璃基板吸收準分子雷射的能量後，會轉變成為多晶矽結構，因整個處理過程都是在600℃以下完成，所以一般玻璃基板皆可適用。

低溫多晶矽技術主要特點在於改變液晶構造以提昇傳統非晶矽液晶技術性能及降低製造成本。由於LTPS技術可提升電子遷移率達200(cm2/V-sec)，有利於TFT元件小型化，並提高面板開口率，使得顯示亮度增加、降低耗電率。此外，低溫製程有利於使用玻璃基板，而可大幅降低生產成本。

強調低耗電量、輕薄短小、高解析度、構造簡單的低溫多晶矽面板主要生產大廠有三洋、東芝、松下、ST-LCD、富士通、Seiko-Epson及Sony等多家國際廠商。目前在攜帶型資訊產品、數位相機、監視器、投影機等產品上都可應用低溫多晶矽面板。